3D NAND 也稱為垂直 NAND(V-NAND )。這是一種非揮發性快閃記憶體,電晶體晶粒中的快閃記憶體單元會垂直堆疊,以增加儲存密度。您在單一電晶體晶粒上堆疊的單元層越多,資料完整性也不會受到重大損害,儲存密度就越大。
典型的快閃記憶體晶片透過將資料儲存為電路中的電壓狀態來運作。要了解 3D NAND 的運作方式,請務必先了解 NAND 單元的內部運作。
NAND 代表 “NOT AND”,指管理 NAND 單元內部電路的布林運算子或邏輯閘。只有在兩個輸入都為 TRUE 時,NAND 運算子才會產生假值。
最基本的 NAND 單元是由兩個閘極組成的電晶體:
浮動閘夾在兩層隔離層之間,控制閘在頂端,通道連結源在下面排放。
要對 NAND 單元進行程式編輯,需要將電壓施加至控制閘,該控制閘允許通道中的電子克服第一隔離層及通道進入浮動閘中的臨界電壓。當浮動閘充電時,資料會有效儲存,且儲存格的二進位值會設為零。
若要清除電池芯,必須在整個來源與排放處施加高電壓,以在控制閘中產生負電壓。這樣一來,被困在浮動閘中的電子就能穿過底部隔離層進入通道,有效清除單元,並將二進位值設定為 1。
隨著電池芯尺寸的減小,單電晶體平面上電池芯之間的距離也會減小。當您認為快閃記憶體在單一電晶體單元內儲存電壓狀態時,會特別造成問題。電子從電池芯中漏出,對持久的記憶體儲存來說不太好。將 NAND 單元垂直堆疊到層中提供了幾項優勢,最值得注意的是,能夠將電晶體單元隔開,以避免鄰近單元的干擾。這可改善細胞的穩定性和壽命。
3D NAND 技術在幫助業界跟上摩爾定律方面發揮了重要作用,儘管實際上限制了讓單元變小。以下概述此項技術的發展沿革:
每當後續世代,您都會將電壓狀態增加一倍,進而增加每個單元的位元數。您可能想像,處理單一單元上多種電壓狀態的複雜性需要更高的電氣精確度,這可以降低 NAND 裝置的效能和壽命。
一般情況下,SLC 速度最快、最穩定,而 QLC 則能提供您最大的容量。儘管如此,重要的是要注意,效能與耐久度之間的取捨是相對的。快閃的效能仍比 HDD 高出許多,隨著技術進步,更高層級單元的穩定性也隨之提升。TLC NAND 的耐久度限制恐懼已逐漸被解決,讓現今的資料中心得以享受現代 TLC NAND 的高效能、可靠性和速度。
現在我們已經介紹了 3D NAND 單元運作原理的基礎知識,讓我們來看看 3D NAND 所提供的優勢。3D NAND 可讓您:
如前所述,管理所有電壓狀態並不容易。每個單元的位元越大,可靠執行讀寫作業所需的電氣精確度就越高。
這種現實表現為以下缺點:
與 2D NAND 進行一對一的比較,3D NAND 具備更佳的效能、速度、功耗、耐久度和成本效益。另一方面,應該注意的是,在 MLC 配置中採用 2D NAND 堆疊層的架構存在。此類系統可與 3D NAND 架構競爭。這就是為什麼必須逐個檢視整體儲存系統的可靠性,而非僅根據元件進行整體假設。
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